金属有机化学气相淀积（MOCVD）技术自二十世纪六十年代提出以来，取得了飞速进步，已经广泛应用于制备III族氮化物、III-V族化合物、碲化物、氧化物等重要半导体材料及其量子结构，极大地推动了光电子器件和微电子器件与芯片的发展及产业化，也成为半导体超晶格、量子阱、量子线、量子点结构材料及相关器件研究的关键技术。作为MOCVD技术和化合物半导体材料器件研发交流的平台，自1989年会议举办以来，已经成功举办了十六届，会议规模和影响力越来越大，成为全国学术界和产业界广泛参与的学术盛会。
第十七届全国MOCVD学术会议选择在中国·太原·湖滨国际大酒店举行。本届大会以“探索材料新动能 · 智创未来芯发展”为主题，与会专家学者、工程技术人员及企业家将在MOCVD生长机理与外延技术、MOCVD设备（整机/部件/配件/原材料）、材料结构与物性、光电子器件、电力电子器件、微波射频器件、LED智能照明与物联网、半导体激光器、光伏/光探测器、可见光通信技术等领域开展广泛交流，了解发展动态，促进相互合作。
北京正通远恒科技有限公司有幸应邀出席，届时公司将携核心产品参展，必将给您带来视觉上和技术上的盛宴，在此正通远恒盛情邀请您参加此次会议，竭诚期待与您相聚在这座被汾河滋养的太原！
